半导体：非晶硅（a-Si）和多晶硅厚度测量

使用 Filmetrics F54 测量非晶硅和多晶硅的光学常数（n 和 k）。 该工具涵盖成熟的测量程序，可同时测量和呈现基板厚度、硅层厚度以及层间二氧化硅（SiO₂）厚度。轻点一下，即可完成。

半导体：介电质性能测量

在电子行业，介电薄膜的测量准确性极其重要。 以下是 Filmetrics 测量系统应用最广泛的介电质测量项目：

二氧化硅厚度：Filmetrics 系统可测量 SiO₂ 薄膜的厚度，测量厚度范围为 3 纳米到 1 毫米。

氮化硅（Si₃N₄）的折射率：通过测量氮化硅的折射率以及膜层厚度，可在几秒内全面地表征氮化硅薄膜的性质。 联系我们的薄膜专家，共同探讨您的介电质应用或获取免费试用服务。

显示器：ITO 薄膜厚度

使用精准折射率测量技术，测量氧化铟锡（ITO）和其他透明导电氧化膜（TCO）的厚度。 Filmetrics 工具可以测量液晶层（聚酰亚胺、硬质涂层、液晶和 OLED 层），包括发光层、注入层、缓冲层和封装层。

生物医学涂层厚度测量

单击一下即可测量生物医学领域的涂层厚度，如导管和血管成形术球囊、支架、导丝、针头和其他植入物的涂层厚度。 医疗器械使用专门的涂层来保护设备免受腐蚀，而其他一些涂层则可预防组织创伤、感染甚至是排斥反应等并发症。 另一种常见应用是测量药物输送设备涂层的厚度。 我们的 Filmetrics 工具能快速、可靠地测量厚度，且不会造成破坏，无需对样品进行预处理。

显示器：OLED 测量

有机发光二极管（OLED）应用于多种显示设备，如手机和电视。 OLED显示屏由多种膜层材料组合而成，精准量测它们的厚度信息对表征OLED来说至关重要，对于OLED膜层材料的厚度测量需要用到非接触式测量系统。 我们的 F54-UV 薄膜厚度测量仪器经济实惠、效果可靠，采用非侵入式的测量方法，适用于简单原型设备和全像素化显示屏的测量。 我们的 OLED 测量仪器采用光谱技术，因此还可以检测大气敏感材料中潜在的化学变化。我们还提供 OLED 薄膜样品免费厚度测量体验。

半导体：光刻胶厚度测量

借助 F54 单点桌上型测绘工具，测量单层、多层，甚至是自支撑光刻胶薄膜的光刻胶厚度和蚀刻速率。 所有 Filmetrics 模型均可实现精准光谱反射率建模，以测量光阻厚度（和光阻率）。 独特的专利算法让强大的“一键式”分析变为可能，通常可在一秒内输出结果。 Filmetrics 产品线最热门的应用包括测量 SU-8、Dow BCB 和其他超厚光刻胶的厚度。

多孔硅薄膜测量

多孔硅广泛用于光学仪器、气体传感器和医疗器械等不同领域。

业界最关注的多孔薄膜测量涉及厚度和孔隙率的测量。 通常在测量孔隙率时会用到重力测量等非破坏性方法，但这些方法的准确度极低。 Filmetrics^® F54 免费附赠独特的分析算法，轻点一下鼠标即可获取多孔硅的层厚、折射率和孔隙率。

硅晶圆和薄膜厚度测量

Filmetrics^® 系统包括用于硅晶圆厚度和薄膜厚度测量的桌上型系统、测绘系统和生产系统。 常见晶圆测量材料包括单面抛光或双面抛光硅片、蓝宝石、熔融石英、SiC（碳化硅）、LiTaO₃（钽酸锂）、GaN（氮化鎵）和玻璃。

我们的技术专家将为您找到最适合您厚度测量要求的 Filmetrics 工具，满足您测量不同厚度范围，进行单点测量与厚度测绘等需求。