KLA Instruments将参展中国国际纳米技术产业博览会CHInano
CHInano是具有权威和规模的纳米技术应用产业国际性大会。 大会由峰会(主报告、专题技术分会、应用论坛)、展览、大赛、对接会等部分组成，重点聚焦纳米新材料、微纳制造、第三代半导体、纳米压印、纳米大健康、能源与清洁技术、纳米生物技术等产业领域。
KLA Instruments将在展台上展出光学轮廓仪Filmetrics® Profilm3D®/Zeta™-20,方块电阻测试仪R50，纳米压痕仪等重点机台，并由KLA 技术专家带来精彩的现场报告。
时间：2024年10月23-25日
地点：苏州国际博览中心
展位号：B1号馆 T20
演讲主题：KLA轮廓仪在激光工艺相关形貌表征的应用KLA Optical/Stylus profiler applications in laser induced surface topography
演讲摘要：此次演讲将展示KLA探针式台阶仪在硅基晶圆和Zeta™光学轮廓仪在化合物半导体晶圆利用激光进行晶圆ID 标记中的应用。Zeta™光学轮廓仪使用专利光学ZDot™点阵技术，可对晶圆ID 标记进行表征和识别，从而监控晶圆ID标记的位置。KLA探针式台阶仪使用线性差分电容式传感器的方式，满足亚纳米级高度测试，具有较高的稳定性和重复性。另外，此次演讲还将介绍Zeta™光学轮廓仪在激光划线和激光诱导的半导体制程应用。
演讲嘉宾： 王世源（KLA技术专家）
演讲时间：10月24日15:00（分论坛：半导体光电及激光智能制造技术会议）