硅是地球上第二个最常见的元素。它是几乎所有的非光学半导体器件的基础。从光学上讲，硅的折射率和消光系数在探测器和反射器上最吸引人。

下表中的折射率适用于暴露在样品表面的111或100 晶面。掺杂程度对折射率在此波长范围内（200至2500纳米）只有非常小的影响。当暴露在氧化环境下，硅形成接近理想表面的SiO2 层。这个在日常环境中形成的“本土”氧化层，在测量超薄薄膜在硅片上的厚度或折射率时往往必须考虑。

对于典型的样品 - Si - 波长在 632.8 nm 下的折射率和消光系数为3.88163及0.01896923。 以下是包含完整折射率和消光系数的文件。 如果文件无法下载，请点击“请求”（Request）以索取该专有文件。

Refractive Index Reference - Handbook of Optical Constants of Solids, Edward D. Palik. Academic Press, Boston, 1985

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